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半导体基础知识——漏极
 
作者:未知   来源:嵌入式技术网    点击数:147   更新时间:2008-3-10
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场效应晶体管(Field Effect Transistor缩写(FET))简称场效应管。一般的晶体管是由两种极性的载流子,即多数载流子和反极性的少数载流子参与导电,因此称为双极型晶体管,而FET仅是由多数载流子参与导电,它与双极型相反,也称为单极型晶体管。它属于电压控制型半导体器件,具有输入电阻高(108~109Ω)、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点,现已成为双极型晶体管和功率晶体管的强大竞争者。

场效应管的结构原理:

在两个高掺杂的P区中间,夹着一层低掺杂的N区(N区一般做得很薄),形成了两个PN结。在N区的两端各做一个欧姆接触电极,在两个P区上也做上欧姆电极,并把这两P区连起来,就构成了一个场效应管。如图所示:

N型导电沟道结型场效应管的电路符号。

将两个P区的引出线连在一起作为一个电极,称为栅极(g),在N型硅片两端各引出一个电极,分别称为源极(s)和漏极(d),很薄的N区称为导电沟道。共漏极放大电路——源极输出器

共漏极放大电路也具有电压放大倍数小于1,但接近1;输出电压与输入电压同相;输入电阻高,输出电阻低的特点。



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